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PVD技术磁控溅射技术电子束蒸发DLCHIPIMSPACVDCVD
PACVD 又叫 PECVD (离子强化气相沉积)

PACVD 离子加强化学气相沉积是在高度真空环境,温度低于 200 ℃的情况下,沉积极度光滑,粘着性能好的无定形金刚石硬质合金涂层。相对 PVD 工艺, PaCVD 工艺应用深镀电源,无需阴极靶材,同时工件在炉膛中无需旋转,该工艺为干净无污染,可靠,和多性能的涂层工艺。

 

PACVD 离子加强化学气相沉积是在高度真空环境,温度低于 200 ℃的情况下,沉积极度光滑,粘着性能好的无定形金刚石硬质合金涂层。

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