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    真空镀膜机无油立式往复真空泵的结构特点真空镀膜工艺问题汇总

    作者:真空镀膜设备_真空镀膜机_PVD真空电镀设备_蒸发离子镀膜机 来源:致诚科技镀膜系统整体解决方案 发布时间:2019-08-21 00:30:45

    真空镀膜机无油立式往复真空泵是取代W型往复真空泵的理想产品,具有以下特点:
    泵腔内无油润滑,可获得洁净真空,有利于尾气的洁净回收。 振动小、噪音低、真空度高。操作简便、维护简单。滑块将往复运动通过活塞杆,传递给活塞,安装有碳四氟活塞环的活塞在气缸内往复运动从而获得真空。由于活塞环采用自润滑碳四氟材料,所以气缸内无需润滑。尾气回收的功能也提高了真空清洁度。

          结构特点:真空镀膜机,真空镀膜设备,真空电镀设备
          真空镀膜机真空室内还装有主、从动轮,其上支撑着传动链,轴瓦架紧固在传动链上;等离子体处理电极安装在从动轮的中心;真空规管装在真空室顶上,用镀覆的轴瓦减摩层,膜层致密、无杂质,与基底结合力强,完全克服了电镀时形成的恶劣的工作环境及对环境的污染。在前一级的行星架上设置后一级行星轮系的行星架、定轮、行星轴,充分利用了镀膜机真空腔室内的空间,大大增加既可绕真空镀膜机真空腔室中心作“公转”,也提高了靶材的利用率,降低生产成本。
    在采用多个膜料蒸发源和对应的多块修正挡板的真空镀膜机中,对每一膜料蒸发源的每一块修正挡板设置一个伞式机械装置,该伞式机械装置包括在靠近膜料蒸发源真空室底板上竖直地安装一修正挡板支撑杆,在镀膜机真空室底板下方靠修正挡板支撑杆附近设置一气缸,该斜杆的另一端通过第三轴销与修正挡板安装杆相连。

          真空镀膜机真空镀膜工艺问题汇总
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    Al2O3打底已增加粘贴性,怎样镀Al2O3溅射镀怎么镀?请问旋转靶磁场加在哪里?
    2
    一. 多弧离子镀做TiAIN膜1.靶材,材质?尺寸?2.偏压,—脉冲,直流对膜有无影响?
    二. 高建钢材质刀具,1.立铣刀的锋利与镀膜前的酸洗工艺存在矛盾。
    三. 多弧炉中结合了磁控柱靶在TiAIN膜制作过程中,可采用或利用其磁控靶的优点进行,
    四. 用高偏压加氢气的辉光放电,是否用对硬膜的形成不利,会影响其硬度吗?是否用离子轰由(加热)来取代此工艺吗?
    五. 靶材中Ti的纯度,对膜质(硬度,外观,粗糙毒等)有无关系?Ti是否对工具镀膜来说是否足够?
    六.《真空》杂志中有文章介绍,多弧离子镀中用部分铬靶使TiN膜层中含有铬成分,有助于提高膜的硬度和外观的光亮度等那么能否采用钛铬合金靶,达到其效果?
    七. TiAl拔能否使其合金化,是否合金化后,在蒸发靶材时,清除或减少熔滴的产生?使其多弧离子镀,并产出的TiAIN膜质光亮,致密。
    3
    相对来说磁控溅射技术比较深奥些,听的不是太懂之前中设接触过磁控技术书面知识比较理论看不透彻,因为专业知识有限喜欢听笼统一点通俗易懂的。
    4
    一. 如何防止靶的电弧放电问题
    二. Si靶Ti靶的氧气是否一定要用压电阀来控制吗?
    三. 做高反射钳时Si靶Ti靶的氩气,氧气的比例是多少?
    四. 靶的电弧放电与亮孔是否有联系?5.在同样的工艺条件下,为什么有些会出现膜脱落,有时会出现SiTi膜脱落。

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