多弧离子镀膜机-阴极电弧离子镀膜设备

（阴极电弧）多弧离子镀膜的原理是基于冷阴极自持弧光放电等离子体蒸发、电离镀料，结合脉冲偏压技术，提高沉积粒子能量和活性，增强膜层的各项性能。它不仅能在金属制品表面进行镀膜而且能在非金属制品表面上进行镀膜；可以镀金属膜，氮化钛、碳化钛、氮化锆、氮化铬及镍、铬、铜等化合物膜、多层超硬膜、多元化合物膜，还可以镀氮化钛掺金膜等。

（阴极电弧）pvd离子镀膜机是一种高效、无污染的真空镀膜设备，具有沉积速度快、离化率高、离子能量大、设备操作简单、成本低、生产量大的优点。